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3分钟前 东台铝材6061曝光显影加工厂家信赖推荐「多图」[利成感光38dbdb8]内容：曝光不足，导致单体聚合不，那么在显影过程中，会使的胶膜变软，线条不清晰，色泽暗淡，脱胶。曝光过度，会造成难显影，留有残胶。同时曝光影响图案的线宽，过量曝光会使图形线条变细，蚀刻产品线条变粗。所以好的办法是依据显影的干膜光亮程度，图像清晰度，图案线条与底片相符，曝光设备参数和感光性能，确定适合的曝光时间。

曝光一般在曝光机内进行，目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷，曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、菲林胶片质量等因素。

曝光不足，导致单体聚合不，那么在显影过程中，会使的胶膜变软，线条不清晰，色泽暗淡，脱胶。曝光过度，会造成难显影，留有残胶。

蚀刻曝光就是通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。

曝光后的干膜有些需要放置10～15min后才能显影，这必须根据实际情况，根据干膜的要求执行。

利用稀碱溶液与光致抗蚀剂中未曝光部分的活性基团(羧基)反应，

曝光显影技术优势

1、解决3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷难题；

2、图形转印技术单层、多层套印精度高；

3、雾化喷涂确保厚度均一性，提高致密性，降低油墨厚度；

4、采用图形转印技术，良率较高；

5、4-6寸盖板单制程产能优势明显；

6、较薄的油墨利于贴合，提高制程整体良率；

曝光显影加工是半导体工业制程中的一种加工方法，也被称为光刻工艺。该加工方法主要应用于芯片制造过程中的多个步骤中，如制造晶体管、金属线、电容、电阻等元件。通过它可以在芯片上制造出不同的图案，从而实现各种电子器件的功能。曝光显影加工是半导体工业中非常重要的一部分。曝光显影直接决定蚀刻图案的准确性，因此在菲林的制作上，需要非常准确和清晰。操作人员要规范作业，避免图案模糊或者移位影响产品品质。